鎂合金微弧氧化受自身電解工藝影響，無法避免地形成多孔膜層，膜層的多孔性為腐蝕過程電解質(zhì)溶液的滲透提供通道，使腐蝕加劇。

        鎂合金傳統(tǒng)微弧氧化膜首先在基體表面形成致密的內(nèi)層結構，并隨著氧化過程的不斷持續(xù)，致密內(nèi)層的厚度不斷生長并逐漸形成疏松多孔的外層結構。而且在微弧氧化的整個過程中始終伴隨著噴發(fā)強度很大的火花，火花的放電直徑可達100μm以上，而這正是形成氧化膜外層疏松層的原因之一，而且工藝耗能大成本高，工藝時間長。

        鎂合金微弧氧化技術還無法完全解決鎂合金腐蝕通電問題，因此從技術的角度加強鎂合金表面處理技術的發(fā)展、深入研究保護膜形成的機理，可進一步改善表面防護膜的性能以解決鎂合金腐蝕痛點，在行業(yè)應用領域上對推進鎂合金材料在航空航天、交通領域與電子工業(yè)等領域的應用具有十分重要的現(xiàn)實意義和經(jīng)濟效益。

        復合氧化技術，是一種針對鎂合金材料的耐蝕性、耐磨性、耐高溫等性能問題研發(fā)出的鎂合金表面處理最新工藝，工藝完美的優(yōu)化了這些問題，復合氧化技術是繼化學鍍、轉(zhuǎn)化膜涂層、陽極氧化、有機物涂層、熱噴涂和氣相處理等鎂合金表面處理之后研發(fā)的最新技術。

        鎂合金復合氧化技術具有工藝簡單、材料適應性寬等特點，所得膜層均勻、質(zhì)硬，可以起到長期的保護作用,鹽霧時間可達200小時，涂層與基體的結合緊密,這也是鎂合金表面處理技術發(fā)展的一個重要突破。